鉬鋁鉬蝕刻液

應用領域：集成電路、G8及以上高世代顯示面板和柔性面板。不含氟離子有害物質(zhì)，不含三氯化鐵等強氧化劑。Taper角度45-60°，CDloss(單邊)＜1μm，無倒切，無側(cè)刻，無殘留。蝕刻速度快，側(cè)蝕小，溶液使用壽命長